半導体材料（フォトレジスト）の研究開発／有機合成・高分子重合人材紹介

オススメポイント

～世界の半導体技術を支える、最先端材料の研究開発～

●半導体産業を支えるコア材料の研究開発
スマートフォン、AI、データセンターなどあらゆる先端技術に不可欠な半導体。
その製造工程で使用される「フォトレジスト」の開発に携わる社会的意義の高いポジションです。

●有機合成・高分子化学の知識を活かせる
低分子化合物の合成や高分子重合など、化学系研究者の専門性を活かしながら最先端材料開発に挑戦できます。
半導体材料未経験の方でも、化学バックグラウンドがあれば活躍可能です。

●世界トップクラスのシェアを持つ安定企業
東証プライム上場企業としての安定基盤に加え、平均勤続年数17年以上、離職率1.6％と長期的に研究開発に取り組める環境が整っています。

●グローバルに広がるキャリア機会
海外売上比率は約80％。
海外顧客対応や研究機関との共同研究など、グローバルなフィールドで活躍する可能性もあります。

https://job.advan-t.com/cgi-bin/jobsearch/research/search/index.cgi?c=zoom&pk=29539

半導体材料（フォトレジスト）の研究開発／有機合成・高分子重合

給与・待遇	年収 5,300,000円～ 6,700,000円 (交通費支給あり) ・想定年収：530万円～670万円・月給：28万円～33万円・賞与：年2回（6月、12月）※7.13か月分（実績）・昇給：年1回（4月）
勤務地	住所：神奈川県寒川町（高座郡） JR寒川駅／平塚駅／茅ヶ崎駅（JR寒川駅（車で約9分）／平塚駅（車で約15分）／茅ヶ崎駅（バスで約20分））
仕事内容	■業務概要半導体製造に使用されるフォトレジスト材料の研究開発を担当いただきます。新規材料の設計から合成、評価、スケールアップまで幅広く携わり、より高性能なレジストの開発を目指します。 ■業務詳細・レジスト性能向上につながる新規化合物の設計および合成・レジスト用ポリマーの重合および材料設計・レジストのフォーミュレーション開発および性能評価・材料のスケールアップおよび製造プロセスの検討・顧客要求を踏まえた材料改良・技術課題の解決・大学や研究機関との共同研究推進顧客・製造部門・評価部門など社内外と連携しながら、研究成果を実際の製品へとつなげていく役割を担います。場合によっては海外顧客対応や研究機関との連携など、グローバルなフィールドで活躍する機会もあります。 ■魅力・やりがいこの仕事の魅力は、自身が開発した材料が世界中の半導体製造に使われる可能性がある点です。フォトレジストの性能向上は、半導体の微細化や性能向上に直結します。つまり、研究開発の成果がスマートフォンやAI、IoTなど最先端技術の進化を支えることにつながります。また、研究テーマの検討から材料設計、評価、スケールアップまで幅広く携わることができるため、化学研究者としての専門性を深めながらキャリアを築くことができます。グローバル市場で評価される材料開発に携われる点も大きな魅力です。
勤務時間・残業	08:30～17:15（実働 7 時間 45 分）休憩： 1時間フレックスタイム制※コアタイム：10:00～15:00 フレキシブルタイム：6:00～10:00、15:00～22:00 休憩時間：60分時間外労働有無：有＜標準的な勤務時間帯＞ 8:30～17:15
休日	完全週休2日制（土・日）、祝日、年末年始休暇、年次有給休暇（入社半年経過後 15日～最高20日）、慶弔休暇　など　年間休日123日
対象となる方	＜必須＞・化学系の大学または大学院を卒業している、　もしくは化学系企業での開発経験を有すること・低分子化合物の合成経験、もしくは高分子重合の経験＜歓迎＞・高分子・低分子いずれにおいても量産規模での合成経験・半導体材料・電子材料に使用される化学薬品の取り扱い経験・語学力（特に英語）・量子科学計算、データサイエンス、機械学習などの知識・経験・各種分析の経験（例：HPLC、GPC、NMRなど）・部門・社内外との連携が円滑に行えるコミュニケーション力・英語力：中級
その他就業条件	無期
業界	化学